Plazma Temizleme İşlemcisi

HY-EL25H, araştırma enstitüleri, kurumsal Ar-Ge departmanları ve küçük ölçekli pilot üretim hatları tarafından yaygın olarak kullanılan bir laboratuvar plazma işleme sistemidir. CCP (Kapasitif Olarak Eşleştirilmiş Plazma) deşarj teknolojisini kullanır. Komple sistem, kare paslanmaz çelik vakum odası, plazma jeneratörü, vakum pompası ve gaz giriş ve çıkış portlarından oluşmaktadır.Bu ekipman, alt tabaka yüzeyine yapışmayı etkili bir şekilde artırır ve yüzeyin hidrofilikliğini iyileştirir; malzeme bağlama, kaplama, alt tabaka film biriktirme ve gofret bağlama gibi geniş uygulama alanlarına sahiptir. Yarı iletken, mikroakışkan ve yeni malzeme araştırma projeleri için istikrarlı ve tekrarlanabilir plazma işlemi sağlar.

HY-DD600, çipler, FPC esnek devreler ve minyatür BGA alt tabakaları dahil olmak üzere küçük hassas parçalar için özel olarak tasarlanmış dar ve küçük nozul tasarımına (2–6 mm etkili genişlik) sahiptir. Sıfır potansiyelli düşük sıcaklıklı plazma jeti, ultra ince PI/ITO malzemeler için termal yanma riskini ortadan kaldırır. Kompakt tabancası, dar boşluklara ve karmaşık mikro yapılara uyum sağlayarak, yarı iletken paketleme ve kamera modülü ön işlemi için küçük otomatik yapıştırma ve dağıtım hatlarıyla mükemmel bir uyum sağlar.