Doğru fiyat teklifi almak için ürün detaylarını (renk, boyut, malzeme vb.) ve diğer özel gereksinimleri girin.
mesaj bırakın
Ürünlerimizle ilgileniyorsanız ve daha fazla bilgi edinmek istiyorsanız, lütfen buraya bir mesaj bırakın, en kısa sürede size cevap vereceğiz.
1

7 inç PLC Dokunmatik Ekranlı Laboratuvar Tipi 25 Litrelik Vakumlu Plazma Temizleme Makinesi

HY-EL25H, araştırma enstitüleri, kurumsal Ar-Ge departmanları ve küçük ölçekli pilot üretim hatları tarafından yaygın olarak kullanılan bir laboratuvar plazma işleme sistemidir. CCP (Kapasitif Olarak Eşleştirilmiş Plazma) deşarj teknolojisini kullanır. Komple sistem, kare paslanmaz çelik vakum odası, plazma jeneratörü, vakum pompası ve gaz giriş ve çıkış portlarından oluşmaktadır.

Bu ekipman, alt tabaka yüzeyine yapışmayı etkili bir şekilde artırır ve yüzeyin hidrofilikliğini iyileştirir; malzeme bağlama, kaplama, alt tabaka film biriktirme ve gofret bağlama gibi geniş uygulama alanlarına sahiptir. Yarı iletken, mikroakışkan ve yeni malzeme araştırma projeleri için istikrarlı ve tekrarlanabilir plazma işlemi sağlar.

  • Marka :

    HYRNUS
  • Ürün No. :

    HY-EL25H
  • Sipariş (Minimum Sipariş Miktarı) :

    1 Set
  • Garanti :

    One-Year Warranty and Lifetime Maintenance
  • Ödeme :

    T/T
  • Kurşun zamanı :

    7-35 Days
  • Ürün Menşei :

    China
  • 7 inç PLC Dokunmatik Ekranlı Laboratuvar Tipi 25 Litrelik Vakumlu Plazma Temizleme Makinesi

    Ürün Tanıtımı

    NE-PE25H Vakum Plazma Temizleme Makinesi Üniversite araştırma laboratuvarları, kurumsal Ar-Ge merkezleri ve küçük ölçekli üretim için idealdir. Askeri sınıf kaynakla üretilmiş kare paslanmaz çelik vakum odası, entegre çift katmanlı elektrotlar, çift bağımsız gaz kanalı ve arka egzoz sirkülasyonlu önden açılan yapısıyla makine, homojen gaz alımı ve mükemmel korozyon direnci sağlar. Kullanıcı dostu dokunmatik ekranı, gerçek zamanlı parametre izlemeyi, tam veri izlenebilirliği ile çok gruplu saklanabilir proses reçetelerini destekler ve çeşitli gaz oranı testleri için ekstra bir gaz karıştırıcıya olan ihtiyacı ortadan kaldırır.

    Bu plazma sistemi, yüzey yapışmasını ve hidrofilitesini önemli ölçüde artırarak, organik kirlilik temizliği, yüzey hidrofilik/hidrofobik modifikasyonu, hassas mikro aşındırma, PDMS mikroakışkan çip yapıştırma ve fotorezist yakma gibi temel işlemler için istikrarlı ve tekrarlanabilir bir işlem sağlar. Malzeme yapıştırma, kaplama, alt tabaka film biriktirme ve her türlü yarı iletken yeni malzeme araştırma projesinde yaygın olarak kullanılmaktadır.

    Ürün Uygulaması

    1. Temizleme: Organik kalıntıları, oksitleri, metal tuzlarını ve nano ölçekli partikül kirleticileri uzaklaştırın.

    2. Aktivasyon: Hidrofilik/hidrofobik özellikleri ayarlama, yüzey enerjisini artırma, fonksiyonel grupları aşılama ve biyouyumluluğu iyileştirme.

    3. Aşındırma: Yüzey desenleme, mikro aşındırma ve yüzey morfolojisi ile pürüzlülüğünün kontrol edilebilir şekilde ayarlanması.

    4. Bağlama: PDMS ve diğer mikroakışkan çipler için hermetik bağlama.

    5. Fotorezist Sökme: Fotorezistin yakılması ve alt kısımdaki yansıma önleyici kaplamanın çıkarılması.

     

    25L Vacuum Plasma Cleaning

     

    Ürün Özellikleri

    1. Askeri standartlarda kaynak yöntemiyle işlenmiş paslanmaz çelik vakum haznesi, üstün sızdırmazlık performansı ve mükemmel korozyon direnci sunar.

    2. Alan kullanımını büyük ölçüde iyileştirmek için iki katmanlı elektrot ve çok katmanlı işlem tepsileri entegre edilmiştir.

    3. Gerçek zamanlı işlem parametrelerini gösteren kullanıcı dostu dokunmatik ekran arayüzü.

    4. Tamamen izlenebilir işlem verileriyle, tek tıklamayla geri çağırma için birden fazla işlem reçetesinin saklanmasını destekler.

    5. Çift bağımsız gaz kanalına sahiptir; ek bir gaz karıştırıcıya gerek yoktur, çeşitli gaz oranı formülasyonlarının test edilmesi için uygundur.

    6. Önden açılan kapı ve arka egzoz tasarımı, iç kısımda dinamik gaz sirkülasyonu oluşturur. Eşit hava girişi, tutarlı temizlik sonuçları sağlar.

    Makine Anahat Çizimi ve Vakum Odası Diyagramı

     

    Vacuum Plasma Chamber

     

    Teknik Özellikler

     
    HAYIR.KategoriTeknik Özellik MaddesiParametre
    1Plazma JeneratörüGüç0–1000W, sürekli ayarlanabilir
    Sıklık40 kHz
    2Vakum Reaksiyon OdasıOda MalzemesiAskeri standartta sızdırmazlık özelliğine sahip ithal 316 ayna paslanmaz çelik.
    Oda Hacmi380(G)×390(D)×170(Y) mm; 25L
    Etkin İşleme Alanı333(G) × 320(D) mm
    3Deşarj ElektrotlarıElektrotlar3 adet özel yüksek iletkenliğe sahip alüminyum alaşımlı elektrot
    İşleme Katmanları2 katman
    Deşarj ModuCCP kapasitif bağlantılı plazma reaksiyon deşarjı
    Pozitif ve Negatif Elektrot Aralığı50 mm
    Tepsi Temizliği30 mm
    4Gaz Yolu KontrolüKütle Akış Kontrol Cihazı300 SCCM
    Gaz Devre TasarımıTutarlı temizleme ve aşındırma sonuçları için çift taraflı homojen hava giriş tasarımı.
    Gaz KanallarıO ile uyumlu 2 gaz hattı, Ar, N, H, vesaire.
    (Aşındırıcı gaz gerekiyorsa lütfen önceden bize bildirin.)
    5Vakum ÖlçümüVakum Ölçüm SistemiÖlçüm aralığı: 5×10² ~ 1,0×10⁵ Pa
    Ölçüm doğruluğu: 0,1 Pa
    6Pompalama SistemiVakum Pompası16 m³/h
    Vakum Boru HattıPaslanmaz çelik boru + pnömatik vanalar
    7Kontrol SistemiKontrol ModuPLC
    Dokunmatik Ekran7 inç dokunmatik panel
    Yazılım ProgramıKendi geliştirdiği patentli plazma kontrol sistemi
    8Site KoşullarıGüç Kaynağı220V, 50/60Hz, 13A
    Gaz Borusu Bağlantı ParçasıΦ6 mm
    Gerekli Gaz Saflığı%99,99
    Giriş Gaz Basıncı0,3–0,6 MPa
    Egzoz PortuKF25 flanşı
    9Genel Makine ÖzellikleriGenel Boyutlar650 mm (Uzunluk) × 649 mm (Genişlik) × 666 mm (Yükseklik)
    Net ağırlığı80 kg
    Toplam Güç Tüketimi3 kW

     

    Çalışma Ortamı (Müşteri Tarafından Hazırlanacak Malzemeler)

     

    HAYIR.ÖğeGereksinimler
    1Güç Kaynağı ve Şebeke DurumuGiriş: 220V, 50/60Hz; izin verilen şebeke dalgalanması ±%10. Koruyucu topraklama kablosu uluslararası standartlara uygun olmalıdır. Ekipman kurulum alanının yakınında güçlü elektromanyetik girişim olmamalıdır.
    2Kurulum Ortam KoşullarıOrtam sıcaklığı: 0–40°C; Bağıl nem: %15–%60.
    3Gaz Kaynağı HazırlığıOksijen, argon, azot, hidrojen vb. gaz tüpleri (basınç düşürücü vanalarla donatılmış olmalıdır). Giriş gaz basıncı > 0,3 MPa; Gaz bağlantı çapı: Φ6 mm.
    4Egzoz KanalıVakum pompasının egzoz çıkışına bağlayın (temiz oda uygulamaları için zorunludur).
     

    Ürün Detayları

      •  

    Vacuum plasma surface treatment machine
    25L Vacuum Plasma Cleaning MachineCCP Capacitively Coupled Plasma System
     
     
     
     
     
     
     
     
     

     

     

mesaj bırakın
Ürünlerimizle ilgileniyorsanız ve daha fazla bilgi edinmek istiyorsanız, lütfen buraya bir mesaj bırakın, en kısa sürede size cevap vereceğiz.

mesaj bırakın

mesaj bırakın
Ürünlerimizle ilgileniyorsanız ve daha fazla bilgi edinmek istiyorsanız, lütfen buraya bir mesaj bırakın, en kısa sürede size cevap vereceğiz.
BİZE ULAŞIN :allen@hyrnus.com