Laboratuvar Ar-Ge'si için 0-300W Sürekli Ayarlanabilir Kompakt Vakumlu Plazma Temizleme Makinesi

Ürün Tanıtımı

HY-ES10 bir 0–300W Sürekli Ayarlanabilir Kompakt Vakumlu Plazma Temizleme Makinesi Üniversiteler, araştırma enstitüleri, kurumsal Ar-Ge laboratuvarları ve küçük ölçekli prototipleme uygulamaları için tasarlanmıştır. Olgun ve güvenilir CCP (Kapasitif Olarak Bağlanmış Plazma) üretim teknolojisini benimseyen ünite, vakum reaksiyon odası, plazma jeneratörü, vakum pompalama ünitesi, çok kanallı hassas gaz devresi ve akıllı PLC kontrol sisteminden oluşan hepsi bir arada entegre bir tasarıma sahiptir.

Düşük sıcaklıklı plazma teknolojisiyle çalışan bu makine, yüzey temizleme, aktivasyon, mikro aşındırma, gofret yapıştırma ve fotorezist yakma gibi çeşitli işlemleri gerçekleştirir. Malzeme yüzey yapışmasını önemli ölçüde artırır ve hidrofilik veya hidrofobik özellikleri değiştirerek, malzeme yapıştırma, kaplama ve alt tabaka film biriktirme işlemleri için evrensel bir ön işleme ekipmanı görevi görür.

Ürün Uygulaması

Ürün Özellikleri

1. Askeri standartlarda kaynak işlemiyle üretilmiş, mükemmel sızdırmazlık ve üstün korozyon direnci özelliklerine sahip paslanmaz çelik vakum odası.

2. Alan kullanımını en üst düzeye çıkarmak için 2 adet dahili elektrot ve çok katmanlı işlem tepsisi ile donatılmıştır.

3. Kullanıcı dostu kullanım için sezgisel dokunmatik ekranlı HMI, gerçek zamanlı işlem parametrelerini görüntüler.

4. Tek tıklamayla geri çağırma için birden fazla işlem reçetesinin saklanmasını destekler ve tam veri izlenebilirliği sağlar.

5. Farklı gaz oranlarının temizleme sonuçlarını nasıl etkilediğine dair araştırmaları kolaylaştırmak için iki bağımsız gaz kanalı yapılandırılmıştır.

6. Konveksiyon tipi gaz dağıtım sistemi, çalışma sırasında dinamik gaz sirkülasyonu oluşturarak ve homojen hava girişi sağlayarak üstün temizleme performansı sunar.

Makine Anahat Çizimi ve Vakum Odası Diyagramı

 

 

Teknik Özellikler

 

HAYIR.	Kategori	Ürün Adı	Parametreler
1	Plazma Jeneratörü	Güç	0–300W, sürekli ayarlanabilir
		Sıklık	40 kHz
2	Vakum Reaksiyon Odası	Oda Malzemesi	Askeri standartta sızdırmazlık özelliğine sahip ithal 316 paslanmaz çelik.
		Oda Hacmi	10,8 L
		Oda Boyutları	200(G) × 270(D) × 200(Y) mm
		Tek Katmanlı Etkin İşleme Alanı	176(G) × 210(D) mm
		Elektrot Miktarı	2 adet altın kaplama alüminyum alaşımlı özel elektrot
		İşleme Katmanları	3 katman
		Tek Katmanlı Yükseklik Aralığı	Yükseklik: 35 mm
3	Gaz Kontrol Sistemi	Gaz Akış Kontrol Cihazı	500 SCCM
		Gaz Kanalı Miktarı	O ile uyumlu 2 bağımsız kanal₂, Ar, N₂, H₂, vesaire.
			(Aşındırıcı gaz gerekiyorsa lütfen önceden bize bildirin.)
4	Vakum Ölçümü	Vakum Ölçüm Sistemi	Ölçüm Aralığı: 5×10⁻² ~ 1,0×10⁵ Pa
			Ölçüm Doğruluğu: 0,1 Pa
5	Pompalama Sistemi	Vakum Pompası	Pompalama Hızı: 16 m³/saat
		Vakum Boru Hattı	Paslanmaz çelik boru hattı + pnömatik vanalar
6	Kontrol Sistemi	Dokunmatik Ekran	7 inç
		Kontrol Modu	PLC
		Gerçek Zamanlı İzleme	Güç, çalışma süresi
		Yazılım Programı	Kendi geliştirdiği patentli plazma kontrol sistemi, otomatik/manuel mod, giriş/çıkış izleme.
		Alarm Fonksiyonu	Vakumlu yanlış kullanım önleme koruması
		Basınç Dengeleme Fonksiyonu	Ayarlanabilir ön dengeleme süresi ile proses gazı girişini destekler.
7	Yardımcı Hizmet Gereksinimleri	Güç Kaynağı	220V 50/60Hz 9A
		Gaz Borusu Arayüzü	Çap: 6 mm
		Gaz Saflığı	%99,99
		Gaz Basıncı	0,4–0,6 MPa
		Egzoz Portu	KF25

 

Çalışma Ortamı (Müşteri Tarafından Hazırlanacak Malzemeler)

 

HAYIR.	Kategori	Gereksinimler
1	Güç Kaynağı	Giriş şebekesi: 220V, 50/60Hz, voltaj dalgalanması ±%10; topraklama kablosu uluslararası standartlara uygun olmalıdır; kurulum yeri çevresinde güçlü elektromanyetik girişim olmamalıdır.
2	Kurulum Koşulu	Ortam sıcaklığı: 0–40°C; Ortam bağıl nemi: %15–%60.
3	Gaz Tedariki	O için gaz tüpleri₂, Ar, N₂, H₂ vb. (basınç regülatörü ile donatılmış olmalıdır); giriş basıncı ＞0,3 MPa; gaz borusu bağlantı çapı: Φ6 mm.
4	Egzoz Boru Hattı	Vakum pompasının egzoz çıkışına bağlayın (temiz/tozsuz odalara monte ediliyorsa zorunludur).